ਸੂਚਨਾ ਅਤੇ ਆਪਟੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕਸ ਦੇ ਖੇਤਰਾਂ ਵਿੱਚ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਵਿਕਾਸ ਨੇ ਰਸਾਇਣਕ ਮਕੈਨੀਕਲ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ (ਸੀਐਮਪੀ) ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੇ ਨਿਰੰਤਰ ਅੱਪਡੇਟ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕੀਤਾ ਹੈ।ਸਾਜ਼-ਸਾਮਾਨ ਅਤੇ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਅਤਿ-ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੀਆਂ ਸਤਹਾਂ ਦੀ ਪ੍ਰਾਪਤੀ ਉੱਚ-ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਵਾਲੇ ਘਬਰਾਹਟ ਵਾਲੇ ਕਣਾਂ ਦੇ ਡਿਜ਼ਾਈਨ ਅਤੇ ਉਦਯੋਗਿਕ ਉਤਪਾਦਨ ਦੇ ਨਾਲ-ਨਾਲ ਅਨੁਸਾਰੀ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਸਲਰੀ ਦੀ ਤਿਆਰੀ 'ਤੇ ਵਧੇਰੇ ਨਿਰਭਰ ਕਰਦੀ ਹੈ।ਅਤੇ ਸਤਹ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਅਤੇ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਦੀਆਂ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਦੇ ਨਿਰੰਤਰ ਸੁਧਾਰ ਦੇ ਨਾਲ, ਉੱਚ-ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਵਾਲੀਆਂ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੀਆਂ ਜ਼ਰੂਰਤਾਂ ਵੀ ਵੱਧ ਤੋਂ ਵੱਧ ਹੋ ਰਹੀਆਂ ਹਨ.ਸੀਰੀਅਮ ਡਾਈਆਕਸਾਈਡ ਨੂੰ ਮਾਈਕ੍ਰੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕ ਯੰਤਰਾਂ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਆਪਟੀਕਲ ਕੰਪੋਨੈਂਟਸ ਦੀ ਸਤਹ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਮਸ਼ੀਨਿੰਗ ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਗਿਆ ਹੈ।
ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪਾਊਡਰ (VK-Ce01) ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪਾਊਡਰ ਵਿੱਚ ਮਜ਼ਬੂਤ ਕੱਟਣ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ, ਉੱਚ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਕੁਸ਼ਲਤਾ, ਉੱਚ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਸ਼ੁੱਧਤਾ, ਚੰਗੀ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਗੁਣਵੱਤਾ, ਸਾਫ਼ ਓਪਰੇਟਿੰਗ ਵਾਤਾਵਰਨ, ਘੱਟ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਣ, ਲੰਬੀ ਸੇਵਾ ਜੀਵਨ, ਆਦਿ ਦੇ ਫਾਇਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ. ਆਪਟੀਕਲ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਅਤੇ CMP, ਆਦਿ ਖੇਤਰ ਇੱਕ ਬਹੁਤ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਸਥਿਤੀ ਰੱਖਦਾ ਹੈ।
ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀਆਂ ਬੁਨਿਆਦੀ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ:
ਸੀਰੀਆ, ਜਿਸ ਨੂੰ ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਵੀ ਕਿਹਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਸੀਰੀਅਮ ਦਾ ਇੱਕ ਆਕਸਾਈਡ ਹੈ।ਇਸ ਸਮੇਂ, ਸੀਰੀਅਮ ਦੀ ਵੈਲੈਂਸ +4 ਹੈ, ਅਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਫਾਰਮੂਲਾ CeO2 ਹੈ।ਸ਼ੁੱਧ ਉਤਪਾਦ ਚਿੱਟਾ ਭਾਰੀ ਪਾਊਡਰ ਜਾਂ ਕਿਊਬਿਕ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਅਸ਼ੁੱਧ ਉਤਪਾਦ ਹਲਕਾ ਪੀਲਾ ਜਾਂ ਗੁਲਾਬੀ ਤੋਂ ਲਾਲ-ਭੂਰਾ ਪਾਊਡਰ ਹੁੰਦਾ ਹੈ (ਕਿਉਂਕਿ ਇਸ ਵਿੱਚ ਲੈਂਥਨਮ, ਪ੍ਰੈਸੋਡੀਮੀਅਮ, ਆਦਿ ਦੀ ਟਰੇਸ ਮਾਤਰਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ)।ਕਮਰੇ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ ਅਤੇ ਦਬਾਅ 'ਤੇ, ਸੀਰੀਆ ਸੀਰੀਅਮ ਦਾ ਇੱਕ ਸਥਿਰ ਆਕਸਾਈਡ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।Cerium +3 valence Ce2O3 ਵੀ ਬਣਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਅਸਥਿਰ ਹੈ ਅਤੇ O2 ਦੇ ਨਾਲ ਸਥਿਰ CeO2 ਬਣਾਏਗਾ।ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪਾਣੀ, ਖਾਰੀ ਅਤੇ ਐਸਿਡ ਵਿੱਚ ਥੋੜ੍ਹਾ ਘੁਲਣਸ਼ੀਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਘਣਤਾ 7.132 g/cm3 ਹੈ, ਪਿਘਲਣ ਦਾ ਬਿੰਦੂ 2600℃ ਹੈ, ਅਤੇ ਉਬਾਲਣ ਬਿੰਦੂ 3500℃ ਹੈ।
ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਵਿਧੀ
CeO2 ਕਣਾਂ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ ਜ਼ਿਆਦਾ ਨਹੀਂ ਹੈ।ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਹੇਠਾਂ ਦਿੱਤੀ ਸਾਰਣੀ ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ ਹੀਰੇ ਅਤੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਨਾਲੋਂ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਹੈ, ਅਤੇ ਜ਼ੀਰਕੋਨੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਅਤੇ ਸਿਲੀਕਾਨ ਆਕਸਾਈਡ ਨਾਲੋਂ ਵੀ ਘੱਟ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਫੇਰਿਕ ਆਕਸਾਈਡ ਦੇ ਬਰਾਬਰ ਹੈ।ਇਸ ਲਈ ਸਿਰਫ ਮਕੈਨੀਕਲ ਦ੍ਰਿਸ਼ਟੀਕੋਣ ਤੋਂ ਘੱਟ ਕਠੋਰਤਾ ਵਾਲੇ ਸੀਰੀਆ ਦੇ ਨਾਲ ਸਿਲੀਕੋਨ ਆਕਸਾਈਡ-ਆਧਾਰਿਤ ਸਮੱਗਰੀ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਸਿਲੀਕੇਟ ਗਲਾਸ, ਕੁਆਰਟਜ਼ ਗਲਾਸ, ਆਦਿ ਨੂੰ ਡਿਪੋਲਿਸ਼ ਕਰਨਾ ਤਕਨੀਕੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸੰਭਵ ਨਹੀਂ ਹੈ।ਹਾਲਾਂਕਿ, ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਵਰਤਮਾਨ ਵਿੱਚ ਸਿਲੀਕਾਨ ਆਕਸਾਈਡ-ਅਧਾਰਿਤ ਸਮੱਗਰੀ ਜਾਂ ਇੱਥੋਂ ਤੱਕ ਕਿ ਸਿਲੀਕਾਨ ਨਾਈਟਰਾਈਡ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਲਈ ਤਰਜੀਹੀ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪਾਊਡਰ ਹੈ।ਇਹ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ ਸੇਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਦੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਪ੍ਰਭਾਵਾਂ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ ਹੋਰ ਪ੍ਰਭਾਵ ਵੀ ਹਨ.ਹੀਰੇ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ, ਜੋ ਕਿ ਇੱਕ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤੀ ਜਾਂਦੀ ਪੀਸਣ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਵਾਲੀ ਸਮੱਗਰੀ ਹੈ, ਵਿੱਚ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ CeO2 ਜਾਲੀ ਵਿੱਚ ਆਕਸੀਜਨ ਦੀਆਂ ਖਾਲੀ ਥਾਂਵਾਂ ਹੁੰਦੀਆਂ ਹਨ, ਜੋ ਇਸਦੇ ਭੌਤਿਕ ਅਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਗੁਣਾਂ ਨੂੰ ਬਦਲਦੀਆਂ ਹਨ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ 'ਤੇ ਇੱਕ ਖਾਸ ਪ੍ਰਭਾਵ ਪਾਉਂਦੀਆਂ ਹਨ।ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤੇ ਜਾਂਦੇ ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪਾਊਡਰਾਂ ਵਿੱਚ ਹੋਰ ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀ ਦੇ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਇੱਕ ਨਿਸ਼ਚਿਤ ਮਾਤਰਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਪ੍ਰੇਸੋਡਾਇਮੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ (Pr6O11) ਵਿੱਚ ਵੀ ਇੱਕ ਚਿਹਰਾ-ਕੇਂਦਰਿਤ ਘਣ ਜਾਲੀ ਬਣਤਰ ਹੈ, ਜੋ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਲਈ ਢੁਕਵਾਂ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਹੋਰ ਲੈਂਥਾਨਾਈਡ ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀ ਆਕਸਾਈਡਾਂ ਵਿੱਚ ਕੋਈ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਨਹੀਂ ਹੈ।CeO2 ਦੀ ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਬਣਤਰ ਨੂੰ ਬਦਲੇ ਬਿਨਾਂ, ਇਹ ਇੱਕ ਖਾਸ ਸੀਮਾ ਦੇ ਅੰਦਰ ਇਸਦੇ ਨਾਲ ਇੱਕ ਠੋਸ ਘੋਲ ਬਣਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਵਾਲੇ ਨੈਨੋ-ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪੋਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪਾਊਡਰ (VK-Ce01) ਲਈ, ਸੇਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ (VK-Ce01) ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਜਿੰਨੀ ਜ਼ਿਆਦਾ ਹੋਵੇਗੀ, ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਓਨੀ ਹੀ ਜ਼ਿਆਦਾ ਹੋਵੇਗੀ ਅਤੇ ਲੰਬੀ ਸੇਵਾ ਜੀਵਨ, ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਖ਼ਤ ਕੱਚ ਅਤੇ ਕੁਆਰਟਜ਼ ਆਪਟੀਕਲ ਲੈਂਸਾਂ ਲਈ ਲੰਬਾ ਸਮਾ.ਸਾਈਕਲਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਕਰਦੇ ਸਮੇਂ, ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪਾਊਡਰ (VK-Ce01) ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨ ਦੀ ਸਲਾਹ ਦਿੱਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।
ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪਾਊਡਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ:
ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪਾਊਡਰ (VK-Ce01), ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕੱਚ ਦੇ ਉਤਪਾਦਾਂ ਨੂੰ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਲਈ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਇਹ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਹੇਠਾਂ ਦਿੱਤੇ ਖੇਤਰਾਂ ਵਿੱਚ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ:
1. ਗਲਾਸ, ਗਲਾਸ ਲੈਂਸ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ;
2. ਆਪਟੀਕਲ ਲੈਂਸ, ਆਪਟੀਕਲ ਗਲਾਸ, ਲੈਂਸ, ਆਦਿ;
3. ਮੋਬਾਈਲ ਫੋਨ ਦੀ ਸਕਰੀਨ ਗਲਾਸ, ਘੜੀ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ (ਵਾਚ ਦਾ ਦਰਵਾਜ਼ਾ), ਆਦਿ;
4. LCD ਮਾਨੀਟਰ LCD ਸਕਰੀਨ ਦੇ ਸਾਰੇ ਕਿਸਮ ਦੇ;
5. Rhinestones, ਗਰਮ ਹੀਰੇ (ਕਾਰਡ, ਜੀਨਸ 'ਤੇ ਹੀਰੇ), ਰੋਸ਼ਨੀ ਦੀਆਂ ਗੇਂਦਾਂ (ਵੱਡੇ ਹਾਲ ਵਿੱਚ ਲਗਜ਼ਰੀ ਝੰਡਲ);
6. ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਸ਼ਿਲਪਕਾਰੀ;
7. ਜੇਡ ਦੀ ਅੰਸ਼ਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ
ਮੌਜੂਦਾ ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਡੈਰੀਵੇਟਿਵਜ਼:
ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਸਤਹ ਨੂੰ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਨਾਲ ਡੋਪ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਤਾਂ ਜੋ ਆਪਟੀਕਲ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੀ ਪੋਲਿਸ਼ਿੰਗ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਸੁਧਾਰ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕੇ।
ਅਰਬਨ ਮਾਈਨਸ ਟੈਕ ਦਾ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਖੋਜ ਅਤੇ ਵਿਕਾਸ ਵਿਭਾਗ।ਲਿਮਟਿਡ, ਨੇ ਪ੍ਰਸਤਾਵਿਤ ਕੀਤਾ ਕਿ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਕਣਾਂ ਦੀ ਮਿਸ਼ਰਤ ਅਤੇ ਸਤਹ ਸੋਧ CMP ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਦੀ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਮੁੱਖ ਤਰੀਕੇ ਅਤੇ ਪਹੁੰਚ ਹਨ।ਕਿਉਂਕਿ ਕਣਾਂ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਨੂੰ ਬਹੁ-ਕੰਪੋਨੈਂਟ ਤੱਤਾਂ ਦੇ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੁਆਰਾ ਟਿਊਨ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਪੋਲਿਸ਼ਿੰਗ ਸਲਰੀ ਦੀ ਫੈਲਾਅ ਸਥਿਰਤਾ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਨੂੰ ਸਤਹ ਸੋਧ ਦੁਆਰਾ ਸੁਧਾਰਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।TiO2 ਦੇ ਨਾਲ ਡੋਪਡ CeO2 ਪਾਊਡਰ ਦੀ ਤਿਆਰੀ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਕਾਰਗੁਜ਼ਾਰੀ 50% ਤੋਂ ਵੱਧ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਉਸੇ ਸਮੇਂ, ਸਤਹ ਦੇ ਨੁਕਸ ਵੀ 80% ਤੱਕ ਘਟਾਏ ਜਾਂਦੇ ਹਨ।CeO2 ZrO2 ਅਤੇ SiO2 2CeO2 ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਆਕਸਾਈਡਾਂ ਦਾ ਸਿਨਰਜਿਸਟਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪ੍ਰਭਾਵ;ਇਸ ਲਈ, ਡੋਪਡ ਸੀਰੀਆ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਨੈਨੋ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਤਿਆਰੀ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਨਵੀਂ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਵਿਕਾਸ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਵਿਧੀ ਦੀ ਚਰਚਾ ਲਈ ਬਹੁਤ ਮਹੱਤਵ ਰੱਖਦੀ ਹੈ।ਡੋਪਿੰਗ ਦੀ ਮਾਤਰਾ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਸਿੰਥੇਸਾਈਜ਼ ਕੀਤੇ ਕਣਾਂ ਵਿੱਚ ਡੋਪੈਂਟ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਅਤੇ ਵੰਡ ਵੀ ਉਹਨਾਂ ਦੀ ਸਤਹ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਨੂੰ ਬਹੁਤ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰਦੀ ਹੈ।
ਉਹਨਾਂ ਵਿੱਚ, ਕਲੈਡਿੰਗ ਢਾਂਚੇ ਦੇ ਨਾਲ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰਨ ਵਾਲੇ ਕਣਾਂ ਦਾ ਸੰਸਲੇਸ਼ਣ ਵਧੇਰੇ ਆਕਰਸ਼ਕ ਹੈ.ਇਸ ਲਈ, ਸਿੰਥੈਟਿਕ ਵਿਧੀਆਂ ਅਤੇ ਸ਼ਰਤਾਂ ਦੀ ਚੋਣ ਵੀ ਬਹੁਤ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਹੈ, ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਉਹ ਵਿਧੀਆਂ ਜੋ ਸਧਾਰਨ ਅਤੇ ਲਾਗਤ-ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਹਨ।ਹਾਈਡਰੇਟਿਡ ਸੀਰੀਅਮ ਕਾਰਬੋਨੇਟ ਨੂੰ ਮੁੱਖ ਕੱਚੇ ਮਾਲ ਵਜੋਂ ਵਰਤਦੇ ਹੋਏ, ਅਲਮੀਨੀਅਮ-ਡੋਪਡ ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਕਣਾਂ ਨੂੰ ਗਿੱਲੇ ਠੋਸ-ਪੜਾਅ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਿਧੀ ਦੁਆਰਾ ਸੰਸ਼ਲੇਸ਼ਿਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ।ਮਕੈਨੀਕਲ ਬਲ ਦੀ ਕਿਰਿਆ ਦੇ ਤਹਿਤ, ਹਾਈਡਰੇਟਿਡ ਸੀਰੀਅਮ ਕਾਰਬੋਨੇਟ ਦੇ ਵੱਡੇ ਕਣਾਂ ਨੂੰ ਬਾਰੀਕ ਕਣਾਂ ਵਿੱਚ ਵੰਡਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਨਾਈਟ੍ਰੇਟ ਅਮੋਨੀਆ ਪਾਣੀ ਨਾਲ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਕਰਦਾ ਹੈ ਤਾਂ ਕਿ ਅਮੋਰਫਸ ਕੋਲੋਇਡਲ ਕਣ ਬਣ ਸਕਣ।ਕੋਲੋਇਡਲ ਕਣ ਆਸਾਨੀ ਨਾਲ ਸੀਰੀਅਮ ਕਾਰਬੋਨੇਟ ਕਣਾਂ ਨਾਲ ਜੁੜੇ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਸੁਕਾਉਣ ਅਤੇ ਕੈਲਸੀਨੇਸ਼ਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਡੋਪਿੰਗ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।ਇਹ ਵਿਧੀ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਡੋਪਿੰਗ ਦੀ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਮਾਤਰਾ ਦੇ ਨਾਲ ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਕਣਾਂ ਦੇ ਸੰਸਲੇਸ਼ਣ ਲਈ ਵਰਤੀ ਗਈ ਸੀ, ਅਤੇ ਉਹਨਾਂ ਦੀ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਕਾਰਗੁਜ਼ਾਰੀ ਨੂੰ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ ਦਿੱਤੀ ਗਈ ਸੀ।ਸੀਰਿਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਕਣਾਂ ਦੀ ਸਤਹ ਵਿੱਚ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਦੀ ਇੱਕ ਉਚਿਤ ਮਾਤਰਾ ਨੂੰ ਜੋੜਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਸਤਹ ਸੰਭਾਵੀ ਦਾ ਨਕਾਰਾਤਮਕ ਮੁੱਲ ਵਧੇਗਾ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਘਟੀਆ ਕਣਾਂ ਵਿਚਕਾਰ ਪਾੜਾ ਬਣ ਜਾਵੇਗਾ।ਮਜ਼ਬੂਤ ਇਲੈਕਟਰੋਸਟੈਟਿਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਹੈ, ਜੋ ਘ੍ਰਿਣਾਯੋਗ ਮੁਅੱਤਲ ਸਥਿਰਤਾ ਦੇ ਸੁਧਾਰ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕਰਦਾ ਹੈ।ਇਸ ਦੇ ਨਾਲ ਹੀ, ਘਬਰਾਹਟ ਵਾਲੇ ਕਣਾਂ ਅਤੇ ਕੁਲੋਂਬ ਖਿੱਚ ਦੁਆਰਾ ਸਕਾਰਾਤਮਕ ਚਾਰਜ ਵਾਲੀ ਨਰਮ ਪਰਤ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਆਪਸੀ ਸੋਸ਼ਣ ਨੂੰ ਵੀ ਮਜ਼ਬੂਤ ਕੀਤਾ ਜਾਵੇਗਾ, ਜੋ ਕਿ ਪਾਲਿਸ਼ਡ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਘਬਰਾਹਟ ਅਤੇ ਨਰਮ ਪਰਤ ਵਿਚਕਾਰ ਆਪਸੀ ਸੰਪਰਕ ਲਈ ਲਾਭਦਾਇਕ ਹੈ, ਅਤੇ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਦਰ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ.